| MOD-001 | Beer-Lambert則 | I(z)=I₀ exp(-αz) | 入射光強度 I₀、吸収係数 α、深さ z、膜厚 L、波長、n/k、反射率 | 膜内光強度分布、吸収エネルギー分布 | 膜内を進む光の強度減衰を表す基本式。吸収係数と膜厚から吸収エネルギー分布を推定する。 |
| MOD-002 | Dillモデル | ∂M/∂t = - C I M | Dill A/B/Cパラメータ、光強度、膜厚、PAC/PAG濃度 | 露光後の反応/漂白状態、潜像 | レジスト中の光活性成分の濃度変化と露光を結びつける古典モデル。Dillパラメータは露光シミュレーションの基礎になる。 |
| MOD-003 | Fick拡散モデル | L_d = √(2Dt) | 拡散係数 D、PEB時間 t、PEB温度、酸濃度、Tg、Mw、クエンチャー | 酸濃度分布、酸拡散長 | PEB中に生成酸がどれだけ広がるかを表す。酸拡散長はCD/LERを理解するための重要な中間量。 |
| MOD-004 | Arrhenius式 | k = A exp(-Eₐ/RT) | 頻度因子 A、活性化エネルギー Eₐ、温度 T | 反応速度定数 k、温度依存性 | PEB温度による脱保護・架橋・拡散係数の温度依存を表す基本式。 |
| MOD-005 | 酸塩基中和モデル | dH/dt = - k_q H Q | 酸濃度 H、クエンチャー濃度 Q、中和速度定数 kq、拡散性 | 有効酸濃度、酸分布、反応領域 | 酸とクエンチャーの中和により、有効酸濃度と酸拡散領域が変化する。 |
| MOD-006 | Mack現像モデル | R = Rmin + (Rmax-Rmin)mⁿ/(mⁿ+mthⁿ) | 脱保護率 m、Rmin、Rmax、mth、n、現像液条件 | 現像速度、現像速度分布 | 脱保護率や反応率から現像速度を推定する。CDやLERの現像境界形成に関係する。 |
| MOD-007 | Poissonショットノイズ | σ/N = 1/√N | 光子数 N、二次電子数、Dose、吸収率 | 相対ゆらぎ、局所酸生成ゆらぎ、欠陥リスク | 光子数や電子数の統計ゆらぎを表す。EUVにおけるLERやストキャスティック欠陥の理解に重要。 |
| MOD-008 | Reaction-Diffusionモデル | ∂C/∂t = D∇²C - R(C) | 酸濃度、拡散係数D、反応速度、クエンチャー濃度、PEB条件 | 酸分布、脱保護率分布、反応フロント | 酸拡散、酸中和、脱保護反応を同時に扱う連成モデル。化学増幅レジストの中心的考え方。 |