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Sprint 1.3 / Sensitivity Theme

感度はどのように決まるのか

光が膜へ入り、PAGが酸を生成し、PEBで反応拡散が進み、現像でパターンが形成されるまでを、図・アニメーション・式・文献で一つのストーリーとして整理します。

定義所定CDや膜抜けを得るために必要な露光量。
主要支配因子光吸収、酸生成、有効酸濃度、反応速度、現像閾値。
主なトレードオフ高感度化とLER・欠陥・解像性の両立。

1. ストーリーで理解する

下の番号を押すと、対応する工程が強調されます。

ExposureResist film PAG → Acid PEB / Diffusion Protected Deprotected Chemical conversion Development Target CD Required Dose = Sensitivity

1. 光が膜へ入る

露光条件と膜の光学特性により、膜内光強度分布が形成されます。

I(z)=I₀ exp(-αz)

2. PAGが酸を生成

吸収エネルギー、PAG濃度、量子収率により初期酸濃度が決まります。

[H⁺]₀ = φ[PAG]Eabs

3. PEBで酸が拡散

PEB温度・時間、樹脂Tg、自由体積、クエンチャーにより酸分布が変化します。

Lᵈ = √(2Dt)

4. 脱保護反応が進む

酸触媒反応により保護基が外れ、樹脂の極性と溶解性が変化します。

k = A exp(-Eₐ/RT)

5. 現像速度差が生まれる

脱保護率が現像速度へ変換され、現像境界が移動します。

R = f(m)

6. 必要Doseが感度になる

所定CDや膜抜けに必要なDoseが、Dose to Size / Dose to Clearとして感度になります。

Sensitivity = required exposure dose

2. 感度へつながるモデル

露光条件Beer-Lambert / DillPAG酸生成Reaction-DiffusionArrheniusMack現像感度
段階モデル主な入力主な出力
光吸収Beer-Lambert / Dillα、Dill A/B/C、膜厚、Dose膜内吸収エネルギー
酸生成PAG酸生成PAG濃度、量子収率、吸収エネルギー初期酸濃度
PEBFick / Reaction-Diffusion / ArrheniusD、Ea、A、PEB温度・時間、クエンチャー酸分布、脱保護率
現像Mack / Level SetRmin、Rmax、mth、現像条件現像速度、CD

3. 簡易シミュレーション部品

これは概念理解用の簡易モデルです。絶対値の予測ではなく、パラメータ変化の方向性を視覚化します。

概念出力

20.0有効酸量
55%反応進行
36相対感度指数

PAG効率・Dose・PEB温度を上げると反応は進みやすくなり、クエンチャー量を増やすと有効酸が減る、という一般的な方向性を示しています。

4. 根拠・参考文献

REF-001 Fundamental Principles of Optical LithographyC. A. Mack — 光学像・レジスト・現像を含むリソグラフィの基礎書。REF-002 Measuring the Dill ABC ParametersSPIE Field Guide — Dillパラメータと露光モデル。REF-003 Lithographic Effects of Acid Diffusion in Chemically Amplified ResistsC. A. Mack — 酸拡散がCD・解像・感度へ及ぼす影響。REF-004 Measurements of the Reaction-Diffusion Front of Model Chemically Amplified PhotoresistsNIST — 反応拡散フロントの測定。REF-005 Dissolution Rate Monitor Tool to Measure EUV Photoresist Dissolution RateVesters et al. — 現像速度測定とMackモデル。