利用条件
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1. サイトの目的
本サイトは、フォトレジストの原料、工程、反応機構、モデル、性能およびそれらの関係を理解するための一般的な技術情報を提供します。特定企業、学会、行政機関、材料メーカー、装置メーカーその他の団体の公式サイトではなく、提携、承認、監修または保証を受けていることを示すものではありません。
2. 掲載情報
掲載内容は、公開論文、公的資料、専門書、メーカー等が公開する技術資料その他の一般に入手可能な情報を基に、当サイト独自の構成と文章で整理しています。社内機密、顧客情報、営業秘密、未公開の処方・工程条件その他の非公開情報は掲載対象としていません。
3. 技術情報の利用
掲載する模式図、数式、計算例、パラメータ感度ビューおよび関係図は、技術理解を目的とするものです。個別製品の性能保証、製造条件の指定、作業標準、安全手順、品質保証、設備操作または法令適合性の判断を提供するものではありません。
4. 外部資料
参考文献や外部サイトへのリンクは、出典確認および追加学習のために掲載しています。リンク先の内容および利用条件は、それぞれの提供者が定める条件に従います。
5. 利用条件の変更
本サイトの内容および本利用条件は、技術情報、法令、サイト機能その他の事情に応じて変更することがあります。