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公開情報を基にした非公式の技術知識サイトです。実務では一次文献・SDS・正式な技術資料をご確認ください。
PHOTORESIST KNOWLEDGE SYSTEM

性能の「なぜ」を、
上流まで遡る。

感度、CD、LER/LWR、欠陥を最終結果として見るだけでなく、樹脂・PAG・Quencher・溶剤、膜形成、露光、PEB、現像、反応速度、酸拡散、溶解モデルまで一つの知識体系としてつなぎます。

LEARNING ROUTES

目的別にたどる

「性能から原因へ」「原料から影響先へ」「工程からモデルへ」と、入口を変えて同じ知識グラフを横断できます。

PERFORMANCE

性能から遡る

感度・CD・LER/LWR・欠陥から、関連する原料・工程・反応まで遡ります。

RELATIONSHIP

関係を俯瞰する

原料・工程・反応・性能の影響関係を定性的なマトリクスと因果図で把握します。

MATERIAL / PROCESS

材料・反応をつなぐ

保護率、Quencher、残留溶剤、反応拡散、現像を中間状態として整理します。

MODEL

式と仮定を確認する

モデル式だけでなく、仮定・適用範囲・限界・出典を分離して確認します。

EXPLORE

自由に探索する

ノードとエッジから関連テーマを横断して探索します。

CORE TOPICS

主要テーマ

まずは最終性能と主要制御因子を中心に整理しています。

01

感度

露光 → 酸生成 → PEB反応 → 溶解までを追跡

02

CD

空中像・反応境界・拡散・現像の寄与を整理

03

LER / LWR

確率ゆらぎ・材料不均一・酸拡散・現像境界

04

欠陥

材料・膜形成・現像・確率起源の欠陥を横断

05

PEB

反応速度と拡散の競合を温度・時間から理解

06

PAG

酸生成効率・拡散・濃度と性能の関係

07

Mw / PDI

分子量・分布・保護率から膜・拡散・溶解へ

08

モデル式

Beer–Lambert / Dill / Fick / Arrhenius / 溶解モデル

EVIDENCE

根拠の強さを分けて扱う

「一般に知られていること」と「条件依存の実験結果」「仮説」を同列に扱わないことを重視します。

A基本理論・定義
B広く認知された知見
C公開実験・個別報告
D経験則・条件依存
E仮説・探索段階
RESEARCH INTEGRITY & RIGHTS

公開サイトとして、権利と根拠を分けて管理します。

外部論文は原則として内容を理解したうえで独自の文章に要約し、図表・画像をそのまま転載しない方針です。必要な引用は引用部分を区別し、出典を明示し、必要な範囲に限定します。各技術ページは実務手順ではなく、公開知識の整理として位置づけます。

外部画像・論文PDFをサイト内へ複製しない
模式図・相関図は独自に再構成
モデル式は仮定・適用範囲・出典を併記
商標・企業名は説明目的で必要最小限
社内機密・顧客情報・未公開条件を掲載しない