式と物理像数式と模式図を対応させ、各項が表す物理・化学的意味を確認できます。
原典・参考文献各モデルの出典確認に利用できるDOI、出版社、公的機関等へのリンクを掲載しています。
適用範囲を明示モデルの仮定、材料依存性、境界条件、パラメータ同定の必要性を区別して扱います。
モデル詳細ページ
各モデルの詳細ページで、代表式、仮定、接続する工程・性能、定量利用の条件を確認できます。
MOD-001 Beer-Lambert則膜内を進む光の強度減衰を表す基本式。吸収係数と膜厚から吸収エネルギー分布を推定する。MOD-002 Dillモデルレジスト中の光活性成分の濃度変化と露光を結びつける古典モデル。Dillパラメータは露光シミュレーションの基礎になる。MOD-003 Fick拡散モデルPEB中に生成酸がどれだけ広がるかを表す。酸拡散長はCD/LERを理解するための重要な中間量。MOD-004 Arrhenius式PEB温度による脱保護・架橋・拡散係数の温度依存を表す基本式。MOD-005 酸塩基中和モデル酸とクエンチャーの中和により、有効酸濃度と酸拡散領域が変化する。MOD-006 Mack現像モデル脱保護率や反応率から現像速度を推定する。CDやLERの現像境界形成に関係する。MOD-007 Poissonショットノイズ光子数や電子数の統計ゆらぎを表す。EUVにおけるLERやストキャスティック欠陥の理解に重要。MOD-008 Reaction-Diffusionモデル酸拡散、酸中和、脱保護反応を同時に扱う連成モデル。化学増幅レジストの中心的考え方。