PRフォトレジスト知識体系 利用条件・免責
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公開情報ベースの学習・研究支援サイトです。 実製造の作業標準、処方指示、安全手順、法的・品質保証上の判断を提供するものではありません。一次文献・SDS・正式な社内手順等を必ず確認してください。
PHOTORESIST KNOWLEDGE GRAPH

フォトレジストを、
原料から最終性能までつなぐ。

感度・CD・LER/LWR・欠陥を、原料品質、製造・リソグラフィ工程、反応速度、酸拡散、溶解現象、モデル式、文献根拠まで遡って確認できる知識体系です。旧PKGのコンテンツを維持しながら、一般公開向けに日本語の動線・レイアウト・利用条件を再設計しました。

原料品質Mw / PDI / 保護率 / PAG 材料・膜形成溶解・混合・塗布・乾燥 工程露光 / PEB / 現像 反応・移動モデル酸生成 / 拡散 / 脱保護 / 溶解 最終性能感度 / CD / LER / 欠陥
01

感度

露光量、酸生成、PEB反応、溶解コントラストから感度をたどります。

02

寸法(CD)

空中像から反応境界、現像後CDまでの寸法形成を整理します。

03

LER / LWR

確率ゆらぎ、材料不均一、酸拡散、現像境界と粗さの関係。

04

欠陥

材料・塗布・乾燥・現像・確率起源の欠陥を横断して整理します。

05

PEB

反応速度と拡散の競合、温度・時間・酸失活を性能と結びつけます。

06

PAG

酸生成効率、酸強度、拡散性、濃度と最終性能の関係。

07

Mw / PDI

分子量・分布・保護率が膜、拡散、溶解、粗さへ及ぼす影響。

08

用語百科事典

主要ノードを定義・関連因子・モデル・文献から参照できます。

09

モデル式・根拠

理論式・経験式・仮定・適用範囲・出典をまとめます。

10

知識エクスプローラー

ノードとエッジを使って原料・工程・性能を横断探索します。

11

相関・因果関係図

原料品質→工程→反応・移動→性能の全体関係を一枚で確認します。

12

公開・法務ポリシー

免責、著作権・引用、プライバシー、公開情報の扱いを明示します。

READING GUIDE

おすすめの見方

最終製品の課題から調べる場合は「感度 / CD / LER・LWR / 欠陥」から開始し、関連する工程・原料・モデルへ遡ってください。原料や工程条件から影響先を調べる場合は「相関・因果関係図」または「知識エクスプローラー」が入口になります。