単一性能の最適化では不十分
フォトレジスト設計では、感度、解像、LER/LWR、欠陥、プロセスウィンドウ等が互いに独立ではありません。ある因子を動かしたとき、どの中間状態を介して複数性能へ波及するかを同時に確認します。
代表的なトレードオフ経路
酸生成 ↑感度改善方向↔局所反応ゆらぎ・副反応
酸拡散長 ↑局所ゆらぎ平滑化↔像ぼけ・CD変化
Quencher ↑反応範囲抑制↔必要Dose増加
現像コントラスト ↑境界明瞭化↔プロセス条件感度
矢印は一般的な検討方向を示し、全材料系で同じ単調関係が成立することを意味しません。
RLSを因果経路で読む
EUV等で議論される Resolution–LER/LWR–Sensitivity のトレードオフは、単一の普遍式ではなく、光子・電子・材料・反応・現像の複数ノイズ源と平均応答の競合として捉えます。
Sensitivity必要Dose
↔Acid statistics生成数・分布
↔Reaction blur拡散・中和
↔Edge gradient化学像・現像
↔Resolution / LER境界品質