最小構成の連成モデル
PEB中の化学像形成は、酸Hの拡散、Quencher Qとの中和、保護サイトPの脱保護を同時に扱うことで整理できます。
∂H/∂t = ∇·(DH∇H) − kQHQ − klossH
∂Q/∂t = −kQHQ
∂P/∂t = −kdp(T)HP
記号は概念整理用です。実際のモデルでは酸の捕捉・再放出、濃度依存D、複数反応種、境界条件等を追加できます。
何が最終性能へつながるか
反応フロント幅
反応・拡散の競合により、化学像の境界幅と勾配が決まります。
酸損失
中和・失活は感度だけでなく、反応可能距離と局所反応量を変えます。
材料状態依存
Dとkは温度だけでなく膜組成・転化率等へ依存し得ます。
無次元化で競合を読む
拡散時間スケールと反応時間スケールを比較すると、反応支配か拡散支配かを整理できます。
τD ~ L²/D τR ~ 1/(kH) 競合度 ~ τD/τR