化学像をパターン境界へ変換する工程
現像では、脱保護率や極性などの化学状態が局所溶解速度Rへ変換され、その空間分布と現像時間から最終形状が決まります。
脱保護率chemical state
→溶解速度 Rnonlinear response
→現像フロントtime evolution
→境界位置CD / profile
→粗さ・欠陥LER / residue
Reduced-orderな溶解応答
詳細な分子機構を直接解かず、可溶化状態mに対する非線形応答として表すことができます。
R(m) = Rmin + (Rmax−Rmin) · mⁿ/(mⁿ+m50ⁿ)
Hill型の概念式です。Mack型その他の現像モデルでは異なる関数形・パラメータ化が用いられます。定量利用では採用モデルの原典と定義を確認します。
最終形状を左右するもの
コントラスト
RminとRmaxの差、応答の急峻さが境界形成に関係します。
現像時間
同じ速度像でも現像時間によりCD・残膜・形状が変化します。
局所ばらつき
溶解速度の局所差は、エッジ位置変動や欠陥へ変換され得ます。